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氦质谱检漏仪光刻机检漏上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求, 为了方便进行快速检漏, 采购伯东 Pfeiffer 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310.光刻机检漏方法: 采用真空模式检漏, 漏率值设定为 1x10-11pa m3/s.1. 通过波纹管与光刻机真空系统连接2. 使用喷枪, 喷扫管路, 腔体焊缝, 接头等部位, 如果存在超过设定漏率值的狭缝, 检漏仪会时时发出声光报警, 同时在屏幕上显示漏率值.
便携式氦质谱检漏仪 ASM 310 主要技术参数：
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对氦气的*小检测漏率 |
真空模式 5E-13 Pa m3/s ,吸枪模式 1E-8 Pa m3/s |
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检测模式 |
真空模式和吸枪模式 |
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氦质谱检漏仪无油前级泵抽速 |
1.7 m3/h |
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检测气体 |
4He , 3He, H2 |
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响应时间 |
<1s |
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对氦气的抽气速度 |
1.1 l/s |
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氦质谱检漏仪进气法兰 |
DN 25 ISO-KF |
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进气口*压力 |
15 hPa |
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通讯接口 |
RS-232 |
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工作温度 |
10-40 °C |
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噪音水平 |
< 45 dB (A) |
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尺寸 |
350 X 245 X 141 mm |
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重量 |
21 kg (46 lb) |
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